电子束蒸发设备

 

电子束蒸发与电阻蒸发复合镀膜系统

 

 

1. 型号：DZS-500

 

2. 生产厂家：中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司

 

3. 仪器简介:

 

本系统主要由蒸发真空室、E型电子枪、热蒸发电极、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。其中系统真空45分钟内可达6. 67×10 ^-4Pa；极限真空可达6. 67×10 ^-5Pa。基片尺寸最大为4″，基片加热温度最高为800°C±1°C。基片与蒸发源之间距离300～350mm连续可调。同时该设备配有膜厚监测仪，膜厚显示范围为0~99μ9999Å,分辨率为1Å。腔体内配备4个水冷式坩埚，可以实现同时或分别蒸发和沉积多种不同的物质。热蒸发系统配备2个蒸发舟，最大输出功率可达3000W。

 

4.  应用领域：电子束蒸发镀膜技术是一种制备高纯物质薄膜的方法。将蒸发材料放入水冷坩埚中，利用电子束直接加热使蒸发材料汽化并在基片上沉积形成薄膜。此设备可用于制备导电薄膜，半导体薄膜，铁电薄膜，光学薄膜，金属薄膜等。