光刻机

 

 

仪器型号：URE－2000／35型

 

生产厂家：中国科学院光电技术研究所

 

仪器简介：采用三柔性支点实现高精度自动调平，真空接触自动曝光，采用积木错位蝇眼透镜实现高均匀照明，可连续设定分离间隙，操作方便，自动化程度高等特点。

 

主要技术参数：曝光面积（Exposuer area）：100mm×100mm

 

             分辨力（Resolution）：1μm (胶厚2μm的正胶)  

 

             对准精度（Alignment accuracy）：±0.8μm  

 

             掩膜尺寸（Mask size）：2.5inch、3inch、4 inch、5 inch  

 

             照明不均匀性（The uniformity of the exposuer）：≤±4%（φ100 mm范围）  

 

             样片尺寸（Sample size）：φ15－φ100mm  

 

             样片厚度（Sample thickness）：0.1 mm－6 mm  

 

应用领域：主要用于紫外接近、接触式光刻制造小规模集成电路、半导体器件、红外器件、微机电系统（MEMS）等。